Nguồn Plasma
Các sản phẩm nguồn Plasma được kiểm chứng và nhập khẩu trực tiếp từ thương hiệu Advanced Energy có tính chính xác cao với công nghệ tiên tiến nhất.
Nguồn DC
Cung cấp các sản phẩm nguồn DC tiêu chuẩn, nhờ bộ tính năng rộng lớn và hiệu suất đáng tin cậy, máy phát điện được sử dụng trong hầu hết trong các lĩnh vực sản xuất - bán dẫn, bảng điều khiển phẳng, thủy tinh, màng mỏng, v.v.
Nguồn tần số thấp
Bộ nguồn tần số thấp và tần số trung bình của Advanced Energy cung cấp năng lượng hiệu quả cao, dễ tích hợp. Cải thiện nhanh chóng việc kiểm soát quy trình trong nhiều ứng dụng khác nhau.
Low-Frequency Series with Enhanced Arc Control and Internal Load Matching for 40 kHz Reactive Sputtering Applications
Nguồn Xung DC
Cùng các tính năng giống nguồn DC, máy phát điện được sử dụng trong hầu hết các thị trường sản xuất - bán dẫn, bảng điều khiển phẳng, thủy tinh, màng mỏng, v.v.
Process-Proven, Pulsed DC for Single-Magnetron Reactive Sputtering of Thin Dielectric Films
An Arc-Bias Solution that Brings a New Level of Precision and Productivity to Cathodic Arc Processes
Nguồn RF Match
Nguồn RF Plasma
Compact, Cost-Effective Integrated Generator and Solid-State Matching RF Power Delivery System
