Navigator II FCi

Phân phối điện năng nhanh chóng, chính xác để yêu cầu các ứng dụng đối sánh tốc độ cao

Advanced Energy’s Navigator II FCi cho phép cải thiện quá trình kiểm soát với khả năng phân phối và điều chỉnh điện năng chính xác. Mạng kết hợp tốc độ cao được tối ưu hóa cho các bước quy trình plasma quan trọng, nhạy cảm với nguồn điện, thời gian ngắn. Các bước thông thường dài hơn và phạm vi điều chỉnh rộng, được xử lý theo cách truyền thống bởi các mạng kết hợp dựa trên tụ điện chân không, cũng được hỗ trợ. Thông qua việc điều chỉnh tốc độ cao, Navigator II FCi cung cấp nhiều cải tiến về kiểm soát quá trình.

  • Giảm thời gian ổn định huyết tương
  • Không có hiện tượng bỏ huyết tương giữa các lần chuyển đổi công thức quy trình

Navigator® II FCi là một mạng kết hợp trở kháng độc lập, được kiểm soát bởi bộ vi xử lý. Kết hợp các yếu tố điều chỉnh được điều chỉnh bằng các mảng tụ điện chuyển mạch trạng thái rắn rời rạc, mạng kết hợp được thúc đẩy bởi nhu cầu đạt được điều chỉnh nhanh, chính xác trên các trở kháng rộng hơn. Với hình thức, dấu chân và phạm vi điều chỉnh tương tự như các đối tác truyền thống, các đối sánh này cung cấp thời gian điều chỉnh trong phạm vi mili giây so với phạm vi một giây điển hình của các mạng đối sánh truyền thống. Công nghệ đối sánh tốc độ cao này được tối ưu hóa và phù hợp cho các bước quy trình plasma quan trọng, nhạy cảm với nguồn điện, thời gian ngắn như Atomic Layer Etch (ALE).

Khi được cấu hình để điều chỉnh toàn dải, Navigator FCi có thể bao phủ một không gian trở kháng giống với không gian trở kháng của một tụ điện chân không. Tính nhỏ gọn của mạch điện trạng thái rắn cho phép phù hợp với một dấu ấn tương tự của phiên bản thông thường. Trận đấu này không có các bộ phận cơ học chuyển động, loại bỏ cơ chế mài mòn và trôi dạt vốn có của các trận đấu truyền thống. Điều này cho phép độ tin cậy cao hơn và khả năng lặp lại trên một loạt các quy trình plasma thử thách và liên tục thay đổi.

  • 13,56 MHz
  • CW và hoạt động xung
  • Cảm biến đo lường đầu ra
  • Làm mát bằng không khí
  • Đạt được khả năng điều chỉnh nhanh chóng, chính xác trên một phạm vi trở kháng rộng
  • Cải thiện độ tin cậy và độ lặp lại
  • Giảm gián đoạn cung cấp điện và “nháy mắt” của plasma
  • Sử dụng công nghệ cho các bước quy trình ngắn, chẳng hạn như các ứng dụng ALE
Call Now Button
small_c_popup.png

để Lại Thông Tin