Máy phát tần số plasma CESAR RF

Máy phát tần số cao Cesar với cấu hình mạnh mẽ và thiết kế linh hoạt được cho là nền tảng cung cấp tần số đặc biệt đồng nhất. Đa dạng lựa chọn phân phối tần số RF, cũng như lựa chọn đa dạng các model, với mỗi tính năng khác riêng biệt (2, 4, 13.56, 27.12, và 40,68 MHz; 0,3 đến 5 kW; với nhiều giao diện người dùng và các tùy chọn đầu vào). Điều này cho phép bạn chọn một đơn vị phù hợp cụ thể với ứng dụng của bạn.

Máy phát tần số cao Cesar với cấu hình mạnh mẽ và thiết kế linh hoạt được cho là nền tảng cung cấp tần số đặc biệt đồng nhất. Đa dạng lựa chọn phân phối tần số RF, cũng như lựa chọn đa dạng các model, với mỗi tính năng khác riêng biệt (2, 4, 13.56, 27.12, và 40,68 MHz; 0,3 đến 5 kW; với nhiều giao diện người dùng và các tùy chọn đầu vào). Điều này cho phép bạn chọn một đơn vị phù hợp cụ thể với ứng dụng của bạn.

·        Công suất đầu ra (Đa dạng model từ 0,3 đến 5 kW)

·        Loại I / O Analog (25 và 15 chân)

·        Loại I / O nối tiếp (RS-232, Ethernet hoặc Profibus)

·        Tối ưu hóa độ tin  cậy, tăng tuổi thọ sản phẩm. Giảm chi phí đầu tư, sửa chữa Khách hàng

·        Màn hình LCD trực quan hỗ trợ người dùng dễ dàng giám sát, thiết lập thông số

·        Bảng  điều khiển dễ dàng thao tác, tính năng toàn diện độc đáo, phù hợp với hầu hết các ứng dụng plasma yêu cầu độ chính xác cao.

·        Thiết kế nhỏ gọn, linh hoạt. Dễ dàng tháo lắp, di chuyển, hay tích hợp với hệ thống các thiết bị khác

  • Ứng dụng công nghệ phún xạ trong tạo màng mỏng, phim mỏng, trong phòng thí nghiệm, công nghiệp

  • Sử dụng tạo các màng mỏng trên bề mặt wafer

  • Ứng dụng trong nhà máy sản xuất wafer, vật liệu bán dẫn, semicondutor.

  • HDP-CVD

  • PECVD

  • Etch – ICP / RIE

  • PVD

  • Làm sạch bằng plasma

·        Máy phát tần số chất lượng cao CESAR, ổn định cao. Đảm bảo quá trình phún xạ luôn được diễn ra ổn định, an toàn.

·        Tăng cường cả hiệu quả của quá trình ion hóa ban đầu và cho phép tạo ra plasma ở áp suất thấp hơn, làm giảm cả sự kết hợp khí nền trong lớp phủ và mất năng lượng trong nguyên tử phún xạ qua va chạm ion Khí

·        Hiệu quả cao – tỏa nhiệt ít hơn, tăng tuổi thọ thiết bị, giảm thiểu chi phí sửa chữa.

Call Now Button
small_c_popup.png

để Lại Thông Tin